Первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров создан в особой экономической зоне «Технополис Москва». Подобное ключевое оборудование для производства микросхем выпускается менее чем в десяти странах мира.
Таким образом, сделан важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости. Российский фотолитограф создан в партнерстве с одним из белорусских заводов.
Если сравнивать с зарубежными аналогами, в отечественной установке впервые использована в качестве излучения не ртутная лампа, а твердотельный энергоэффективный лазер. Он отличается долговечностью и более узким спектром.
Игорь Берёзкин.
Фото MOS.RU
